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吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕荷蘭晶片製造設備大廠艾斯摩爾（ASML）憑藉其高數值孔徑極紫外線（High-NA EUV）曝光機超越了自己的晶片製造密度紀錄，並可將製造速度提升150%。...… 阅读全文>> |
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