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吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕晶片製造商最大的設備供應商ASML週三（17日）表示，已將其最新的「高數值孔徑」（High NA）極紫外光EUV曝光系統之一運送給第2家客戶。
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